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型 號：TSXFPACC41 |
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價 格：面議 |
1、 降低孔隙率,晶核的形成速度大于成長速度,促使晶核細化。
2、 改善結合力,使鈍化膜擊穿,有利于基體與鍍層之間牢固的結合。
3、 改善覆蓋能力和分散能力,高的陰負電位使普通電鍍中鈍化的部位也能沉積,減緩形態復雜零件的突出部位由于沉積離子過度消耗而帶來的“燒焦”“樹枝狀”沉積的缺陷,對于獲得一個給定特性鍍層(如顏色、無孔隙等)的厚度可減少到原來1/3~1/2,節省原材料。
4、 降低鍍層的內應力,改善晶格缺陷、雜質、空洞、瘤子等,容易得到無裂紋的鍍層,減少添加劑。
5、 有利于獲得成份穩定的合金鍍層。
6、 改善陽的溶解,不需陽活化劑。
7、 改進鍍層的機械物理性能,如密度降低表面電阻和體電阻,韌性、耐磨性、抗蝕性而且可以控制鍍層硬度。 US TSUBAKI RS80RIV10FT NSPP RS80RIV10FT
SQUARE D MGN61308 USPP MGN61308
ALLEN BRADLEY 800E-3DL3GX20 NSFP 800E3DL3GX20
ALLEN BRADLEY 800E-2DL3X11V NSFP 800E2DL3X11V
HAKKO V708SD-OVERLAY NSFP V708SDOVERLAY
PROMATIC ET-B-100 USPP ETB100
GENERIC 07106G0B FNFP 07106G0B
BANNER ENGINEERING TL50BRGYWQ NSFP TL50BRGYWQ
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