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專利號:200810059777
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一種嵌入異質結一維摻雜TiO*光催化劑及其制備和應用

本發明公開了一種嵌入異質結一維摻雜TiO↓[2]光催化劑及其制備和應用。該催化劑具有一維結構,經過非金屬摻雜改性,含有TiO↓[2]/SnO↓[2]異質結結構,或含有TiO↓[2]/ZnO異質結結構,或同時含有TiO↓[2]/SnO↓[2]異質結結構與TiO↓[2]/ZnO異質結結構。該催化劑通過化學沉積的方法,在晶體生長催化劑存在條件下,交替切換不同的前驅體、摻雜氣等氣源,實現不同半導體的交替生長,從而制得所需催化劑。該催化劑在紫外、可見光下均具有較高的光催化降解室內污染物的能力。

一種嵌入異質結一維摻雜TiO*光催化劑及其制備和應用

一種嵌入異質結一維摻雜TiO↓[2]光催化劑,其特征在于:該催化劑具有一維結構,經過非金屬摻雜改性,含有TiO↓[2]/SnO↓[2]異質結結構,或含有TiO↓[2]/ZnO異質結結構,或同時含有TiO↓[2]/SnO↓[2]異質結結構與TiO↓[2]/ZnO異質結結構。
 


  
專利號: 200810059777
申請日: 2008年2月27日
公開/公告日: 2008年10月8日
授權公告日:
申請人/專利權人: 浙江大學、浙江天藍脫硫除塵有限公司
國家/省市: 杭州(86)
郵編: 310027
發明/設計人: 趙偉榮、郭森、吳忠標
代理人: 馮子玲
專利代理機構: (33212)
專利代理機構地址: ()
專利類型: 發明
公開號: 101279251
公告日:
授權日:
公告號: 000000000
優先權:
審批歷史:
附圖數: 0
頁數: 7
權利要求項數: 1
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