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專利號:200810109669
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一種電鍍生產設備中鍍槽循環裝置

本發明為一種電鍍生產設備中鍍槽循環裝置。其可以解決主槽槽內空間不足的問題,延長溶液的使用壽命,同時減少工件的污染。其包括主槽、循環槽,其特征在于:所述主槽的槽底為傾斜式槽底,所述槽底設置底閥,所述主槽設置有溢流口,所述溢流口的輸出端通過管道連接循環槽,所述循環槽通過過濾機連接所述主槽;所述主槽的底閥輸出口連接過濾機,所述過濾機的輸出口通過管道連接所述主槽。

一種電鍍生產設備中鍍槽循環裝置

一種電鍍生產設備中鍍槽循環裝置,其包括主槽、循環槽,其特征在于:所述主槽的槽底為傾斜式槽底,所述槽底設置底閥,所述主槽設置有溢流口,所述溢流口的輸出端通過管道連接循環槽,所述循環槽通過過濾機連接所述主槽;所述主槽的底閥輸出口連接過濾機,所述過濾機的輸出口通過管道連接所述主槽。
 


  
專利號: 200810109669
申請日: 2008年6月9日
公開/公告日: 2008年11月12日
授權公告日:
申請人/專利權人: 匡優新
國家/省市: 江蘇(32)
郵編: 214151
發明/設計人: 匡優新
代理人: 劉瑞平
專利代理機構: (32227)
專利代理機構地址: ()
專利類型: 發明
公開號: 101302645
公告日:
授權日:
公告號: 000000000
優先權:
審批歷史:
附圖數: 1
頁數: 3
權利要求項數: 1
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