面向增材制造的輕量化支架拓撲優化與二維工程圖表達規范

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詳細信息面向增材制造的輕量化支架拓撲優化與二維工程圖表達規范

以無人機電機支架為例，采用雙向漸進結構優化法，約束體積保留40%，小尺寸3mm，獲得類骨狀構型。輸出STL后經曲面擬合轉換為STEP實體。工程圖繪制時需明確標注：增材方向、支撐位置、未注圓角R2、表面粗糙度Ra6.3（無支撐面）與Ra3.2（有支撐面）。特別應加入“局部放大圖-傾斜面角度”及“燒結層厚0.12mm”。工藝選擇方面，SLM技術，材料AlSi10Mg，后處理包含去應力退火與噴砂。該圖樣規范已在航空部件制造中驗證，可減少30%后處理時間。




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